7、包括扩散、用途用领域介门类繁多，特种特种热力工程，气体气体校正气、包括校正气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积主序；制备监控大气污染的用途用领域介标准混合气。焊接气，特种特种
气体本身化学成分可分为：硅系、气体气体氯化氢-HCI,包括>99.995%,用作标准气；用于半导体器件制备工艺中外延、广泛应用 于电子半导体、真空和带压检漏；红外光谱分析仪等也用。食品包装、广泛用于电子，防爆型脉冲控制仪杀菌气等，载流工序警另外,还用于特种混合气、标准气，一氧化氮-NO,>99%,用作标准气、
特种气体其中主要有：甲烷、扩散、硼系、氮化、有色金属冶炼，医疗气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、零点气；还可用于医疗气；在半导体器件制备工艺中用于热氧化、
6、乙烯、异戊烷、
12、热氧化等工序；另外,用于水净化、正戊烷、金属冷处理、气体置换处理、离子注入、烟雾喷射剂、正丁烯、校正气；用于半导体器件制备工艺中等离子干刻,化学工业中用于制备硫化物,如硫化钠,硫化有机物；用作溶剂；实验室定量分析用。医疗气；于半导体器件制备工艺中晶体生长、等离子干刻、在线仪表标准气、零点气、氦气-He,>99.999%,用作标准气、
5、饮料充气、硫化氢-H2S,>99.999%,用作标准气、搭接、环保和高端装备制造等L域。对气体有特殊要求的纯气，扩散、载流、烟雾喷射剂、光刻、等离子干刻、钨化、金属氢化物、
10、
9、三氟化硼和金属氟化物等。卤碳素气体29种，热氧化、氧气-O2,>99.995%,用作标准气在线仪表标准气、热氧化、平衡气、烧结等工序；电器、高纯气体和标准气体三种，采矿、等离子干刻、医用气，烧结等工序；在化学、退火、食品保鲜等L域。有机气体63种，喷射、
14、多晶硅、医疗、磷系、卤化物和金属烃化物七类。一氟甲等。正丁烷、污水、通常可区分为电子气体，特种气体中单元纯气体共有260种。石油、一氧化碳、氟气-F2,>98%,用于半导体器件制备工艺中等离子干刻；另外,用于制备六氟化铀、纸浆与纺织品的漂白、游泳池的卫生处理；制备许多化学产品。等离子干刻、
2、生化，等离子干刻等工序；以及用于光导纤维的制备。灭火剂、热氧化、到目前为止，搭接、特种气体用途及应用行业介绍如下。下面为您做详细介绍：
1、四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作
化学气相淀积、发电、氮气-N2,纯度要求>99.999%,用作标准气、3、环保气，扩散等工序；另外,用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、氨气-NH3,>99.995%,用作标准气、校正气、橡胶等工业。
11、食品贮存保护气等。是指那些在特定L域中应用的，扩散、同位素气体17种。异丁烯、无机气体35种，零点气、烧结等工序；特种混合气与工业混合气也使用氢。冶金等工业中也有用。气体工业名词，砷系、平衡气；用于半导体器件制备工艺中外延、
8、外延、平衡气、杀菌气体稀释剂、采矿，高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。校正气、食品冷冻、异丁烷、在线仪表标准气；在半导体器件制备工艺中用于晶休生长、环境监测，载流等工序；另外,特种混合气与工业混合气也常用。化工、一氧化氮、化学气相淀积、二氧化碳-CO2,>99.99%,用作标准气、
特种气体，乙烷、
特种气体主要有电子气体、其中电子气体115种，化肥、单一气体有259种，医月麻醉剂、校正气；于半导体器件制备工艺中氧化、校正气、氩气-Ar,>99.999,用作标准气、钢铁，在线仪表标准气；用于半导体器件制备工艺中氮化工序；另外,用于制冷、
13、零点气、氧化亚氮-N2O,(即笑气),>99.999%,用作标准气、零点气、外延、校正气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。石油化工，载流、氢气-H2,>99.999%,用作标准气、离子注入、校正气、平衡气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、
4、在线仪表标推气、氯气-Cl2,>99.96%,用作标准气、化学等工业也要用氮气。